Корпорация Intel, наконец-то, объявила о старте производства первых пластин на новой 10 нм фабрике Fab 42, которая находится в Аризоне. Fab 42 имеет легендарное прошлое, так как Intel начала ее строительство еще в 2011 году. Фактически оно было завершено к 2013 году, а к 2014 году была уже вся необходимая инфраструктура для производства полупроводников, за исключением самого производственного оборудования. В те времена Intel стремилась к тому, чтобы этот завод производил пластины диаметром 450 мм (вместо стандартных 300 мм) по 14 нм техпроцессу. Однако в 2014 году Intel не была уверена в спросе на свои 14 нм продукты — и компания планировала начать производство 10 нм продуктов в 2016 году. Однако из-за задержек в разработке 10 нм продуктов и проблемами с поставками 14 нм процессоров изменили планы корпорации.
Тем не менее по фабрике Fab 42 все-таки было принято решение о развитии производства 10 нм пластин. И вот сегодня Fab 42 стала третьей производственной фабрикой Intel, работающей по 10 нм нормам, наряду с заводами в Израиле и Орегоне.